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熱蒸發(fā)鍍膜設備

簡要描述：1.EC400是一臺高真空蒸發(fā)鍍膜設備。
2.設備主要由真空室、蒸發(fā)源、膜厚監(jiān)測儀、樣品臺、真空獲得系統(tǒng)、真空測量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、PLC+觸摸屏自動控制系統(tǒng)等組成。
3.該設備主機與控制一體化設計，操控方便；結構緊湊，占地面積小。

  • 所在城市：無錫市
  • 廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
  • 更新日期：2024-10-16
  • 訪  問  量：2348

詳細介紹

品牌LEBO/雷博
　　熱蒸發(fā)鍍膜設備適用：大專院校、科研院所及企業(yè)進行薄膜新材料的科研與小批量制備。
 
　　熱蒸發(fā)鍍膜設備產(chǎn)品特點/用途：
 
　　設備一體化設計，占地面積小，性能穩(wěn)定，使用維護成本低；
 
　　設備配備4～6組蒸發(fā)源，兼容有機蒸發(fā)與無機蒸發(fā)，多元共蒸獲得復合膜/分蒸獲得多層膜，功能強大，性能穩(wěn)定；
 
　　適用于實驗室制備金屬單質(zhì)膜、半導體膜、有機膜，也可用于生產(chǎn)線前期工藝試驗等；
 
　　適用于蒸發(fā)鍍膜與手套箱環(huán)境有機融合，實現(xiàn)蒸鍍、封裝、測試等工藝無縫對接，廣泛用于鈣鈦礦太陽能電池/OPV有機太陽能電池及OLED薄膜等研究系統(tǒng)等。
 
　　1.EC400是一臺高真空蒸發(fā)鍍膜設備。
 
　　2.設備主要由真空室、蒸發(fā)源、膜厚監(jiān)測儀、樣品臺、真空獲得系統(tǒng)、真空測量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、PLC+觸摸屏自動控制系統(tǒng)等組成。
 
　　3.該設備主機與控制一體化設計，操控方便；結構緊湊，占地面積小。
 
　　4.主要用途：
 
　　1. 開發(fā)納米級單層、多層及復合膜層等。
 
　　2. 制備金屬膜、合金膜、半導體膜、陶瓷膜及介質(zhì)膜等，例：銀、鋁、 銅、C60、BCP......
 
　　5.應用領域：
 
　　1. 高校、科研院所的教學、科研實驗及生產(chǎn)型企業(yè)前期探索性實驗及開發(fā)新產(chǎn)品等。
 
　　2. 鈣鈦礦太陽能電池、OLED、OPV 太陽能電池等行業(yè)。
 
　　6.小型實驗設備的理想選擇/性能滿足各種實驗需求/專業(yè)的服務確保用戶省心省力
 
 

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